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本发明提供一种抛光组合物，其包括磨料；可选的pH调节剂；阻挡膜移除速率增强剂；TEOS移除速率抑制剂；钴移除速率增强剂；含唑腐蚀抑制剂；及钴腐蚀抑制剂。及钴腐蚀抑制剂。
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该专利属于富士胶片电子材料美国有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片电子材料美国有限公司授权不得商用。

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