温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种碳化硅外延片及碳化硅二极管器件及其制备方法,碳化硅外延片设置多层N型SiC外延层和不同面积的P型区,位于下层的P型区面积较大,能够提高器件反向击穿特性和抗浪涌电流能力,位于上层的P型区面积较小,能够增加表面肖特基接触面积,进而...该专利属于厦门市三安集成电路有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过厦门市三安集成电路有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种碳化硅外延片及碳化硅二极管器件及其制备方法,碳化硅外延片设置多层N型SiC外延层和不同面积的P型区,位于下层的P型区面积较大,能够提高器件反向击穿特性和抗浪涌电流能力,位于上层的P型区面积较小,能够增加表面肖特基接触面积,进而...