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本发明公开了一种基于主动压力调制的阵列研磨方法，包括：准备研磨工具；测量获得待加工镜面的误差分布，根据研磨工具标准工作条件下的磨削特性，计算单个磨盘的驻留时间；根据研磨工具的空间布局将驻留时间表划分成没有间隙的子驻留时间表，每个研磨工具按照...该专利属于中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所授权不得商用。