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本申请提供一种蓝宝石基底图案化方法，将有机硅溶液涂覆于印章的图案化表面上；再利用压印技术将所述有机硅溶液转印至蓝宝石基底的外表面，以形成有机硅层；然后对所述有机硅层进行分解处理以转化为氧化硅层；再刻蚀所述外表面上未被所述氧化硅层遮蔽的区域，...
该专利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆康佳光电技术研究院有限公司授权不得商用。

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