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本发明公开了一种基于冷等静压的靶材成型压制方法，属于ITO靶材加工技术领域，该方法包括以下步骤：S1、ITO纳米粉的制备：在300℃以下的温度下，制得ITO纳米粉；S2、实心粉料的制备：将ITO纳米粉装入模具中，加压；然后从模具中取出ITO...
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