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本发明公开了一种双工位翻转抛光机的工件盘翻转装置，包括设在升降机构上由翻转驱动机构驱动可以翻转的具有两个工作面的翻转架、设在翻转架上位于每个工作面的若干组工件盘组件；每组工件盘组件包括由恒压驱动装置驱动沿所述翻转架上下运动且由旋转驱动装置驱...
该专利属于宇环数控机床股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宇环数控机床股份有限公司授权不得商用。

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