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本发明涉及一种ALD加工设备以及加工方法。加工设备的反应器包括真空腔室以及反应腔室，反应腔室内置于真空腔室内，反应腔室的底部开设有进气通道及出气通道，进气通道和出气通道以反应腔室的底部的中心线相对设置，反应腔室的侧壁上设置有第一料口，真空腔...
该专利属于无锡市邑晶半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡市邑晶半导体科技有限公司授权不得商用。

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