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本发明提供一种真空卷绕镀膜装置及其处理方法，该真空卷绕镀膜装置的特征在于，具有：放卷室，其用于设置并供给基材；镀膜室，其对由所述放卷室供给的基材在真空中进行镀膜处理；收卷室，其对由所述镀膜室进行镀膜处理后的基材进行卷绕而收卷；第一隔离室，其...
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