温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种用来在衬底上沉积半导体材料的装置，它利用升华管元件作为主要的装置构成部件，半导体材料的气体通过它流出，以提供在被传送的衬底上沉积形成半导体薄膜层的蒸汽。升华管元件具有开口，开口形式可以为密排孔或缝隙，蒸汽通过它流动，以便...
该专利属于中国科学院电工研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院电工研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。