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本申请公开一种洗抹布机构和基站。洗抹布机构应用于基站中，包括底壳、清洗同步带以及同步带驱动组件。底壳形成有清洗槽，基站的储水系统向清洗槽供应清洗液。清洗同步带处于清洗槽中，清洗同步带的表面设有多个清洁齿。同步带驱动组件设于底壳且驱动清洗同步...
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