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本发明涉及一种防镭射膜制备方法，包括基膜和底纹纸，所述底纹纸包括纸张本体和设置在纸张本体上的调幅网点，依次包括以下步骤：步骤一底纹纸制备、步骤二基膜涂布、步骤三模压、步骤四镀铝和步骤五分切；本发明的优点：由于步骤一采用调节调幅网点和调整线条...
该专利属于浙江茉织华印刷股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江茉织华印刷股份有限公司授权不得商用。

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