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一种半导体制造用去离子水湿法氧化回流装置制造方法及图纸
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下载一种半导体制造用去离子水湿法氧化回流装置的技术资料
文档序号:28380694
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本发明提供一种半导体制造用去离子水湿法氧化回流装置,包括底座,所述冷凝装置的下侧设置有与皮带连接的L型转臂,L型转臂的内部设置有金属杆,L型转臂的下部连接有球体,抽吸装置包括:隔板、磁块、导向板和进出口,抽吸装置的内部设置有圆板,分离筒的下...
该专利属于广州链通科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广州链通科技有限公司授权不得商用。
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