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本发明公开了一种前驱体制备系统以及制备方法，前驱体制备系统包括第一反应釜、第二反应釜、输送机构以及控制机构；输送机构配置为能够在制备前驱体的整个过程中持续地将第一釜体中的小颗粒晶核输送至第二釜体中；第一反应釜的第一反应腔室中的pH值大于第二...该专利属于北京当升材料科技股份有限公司;当升科技(常州)新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京当升材料科技股份有限公司;当升科技(常州)新材料有限公司授权不得商用。