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本发明公开了一种制作光学光刻掩模的技术，以用于生产多层、单片集成化的装置，并公开了在光刻掩模的数字化表示法中增加虚拟填充特征的步骤，以及关于检查虚拟填充掩模定义及传送后检查掩模定义给掩模生产设备的步骤。制作一种光刻掩模，例如用于单片集成电路...
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