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一种光学近距修正的方法，包括下列步骤：提供至少一个待曝光电路图形；形成至少一个垂直于待曝光电路图形的待曝光辅助图形，所述待曝光辅助图形尺寸小于光刻机分辨率；将待曝光电路图形及待曝光辅助图形转移至光掩膜上，形成电路图形和辅助图形。经过上述步骤...
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