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一种基于光场双色反射模型和全变分的高反光去除方法技术
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文档序号:28225512
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本发明涉及光场测量技术,具体涉及一种基于光场双色反射模型和全变分的高反光去除方法,首先对原始光场图像解码并得到多个视角的子孔径图像,运用自适应阈值分割算法提取中心子孔径图像中的高反光像素点。在RGB颜色空间内,使用最小二乘法对每个高反光像素...
该专利属于湖北工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过湖北工业大学授权不得商用。
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