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本发明涉及一种高分散镍修饰二硫化钼的制备方法。该方法首先通过将含钼和含硫的前驱物按照Mo:S＝1:4～1:60的原子比例分散到同一溶液中，随后将该溶液转移至水热合成釜中，在140～220℃的条件下，反应6～48h，离心分离，洗涤，真空干燥后...该专利属于中国科学院大连化学物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院大连化学物理研究所授权不得商用。
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本发明涉及一种高分散镍修饰二硫化钼的制备方法。该方法首先通过将含钼和含硫的前驱物按照Mo:S＝1:4～1:60的原子比例分散到同一溶液中，随后将该溶液转移至水热合成釜中，在140～220℃的条件下，反应6～48h，离心分离，洗涤，真空干燥后...