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本发明涉及一种元件清洁装置及方法，装置位于超净间内，包括：高压喷射组件，位于超净间的回风地板的上方，包括相互连通的离子风枪和高压气瓶；风道，其具有风道入口和风道出口，风道入口与离子风枪位于同一水平面且共轴相向设置，风道出口位于回风地板的下方...
该专利属于中国科学院上海高等研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海高等研究院授权不得商用。

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