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一种用于硅片抛光粗抛工序的抛光液及其制备方法和应用技术
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下载一种用于硅片抛光粗抛工序的抛光液及其制备方法和应用的技术资料
文档序号:28145865
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本发明公开了一种用于硅片抛光粗抛工序的抛光液及其制备方法和应用,属于抛光液领域,包括如下重量百分比的组分:二氧化硅胶体20%
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该专利属于北京航天赛德科技发展有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京航天赛德科技发展有限公司授权不得商用。
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