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本实用新型公开了一种铁氧体磁件的抛光打磨装置，具体为铁氧体磁设备领域，包括加工座，所述加工座的底部固定安装有固定底座，所述固定底座内腔的底部固定套装有伸缩内盒，所述加工座的中部开设有入料槽，所述入料槽的顶部活动套装有加工台，所述加工台顶部的...
该专利属于香磁磁业(深圳)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过香磁磁业(深圳)有限公司授权不得商用。

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