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本发明涉及一种双层流动差反应釉及其制备方法，包括以下重量比原料：底釉：低温熔块21％—23％、钾长石粉17％—19％、石英粉14％—16％、方解石粉12％—14％、硅灰石粉3％—5％、煅烧滑石粉1％—3％、碳酸钡6％—8％、氧化锌6％—8％...
该专利属于湖南华联瓷业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南华联瓷业股份有限公司授权不得商用。

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