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本发明涉及一种用于确定和/或监视介质(5)的过程变量的设备(1)，包括至少一个传感器元件(7)，其被布置在传感器头部(3)中，用于确定和/或监视过程变量，其中布置有传感器元件(7)的该传感器头部(3)的内部容积(V)的至少一个子区域至少部分...该专利属于恩德莱斯+豪瑟尔韦泽尔有限商业两合公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩德莱斯+豪瑟尔韦泽尔有限商业两合公司授权不得商用。
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