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公开了用处于大气压力，并处于低温并具有高浓度的反应性物质的氩气和其他分子气体进行操作的等离子体应用。等离子体设备以及容纳所述等离子体设备和衬底的围护结构基本上不含颗粒，所以所述衬底在处理期间不会被颗粒污染。等离子体通过在不存在流光或微弧的情...该专利属于SURFX技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过SURFX技术有限责任公司授权不得商用。
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公开了用处于大气压力，并处于低温并具有高浓度的反应性物质的氩气和其他分子气体进行操作的等离子体应用。等离子体设备以及容纳所述等离子体设备和衬底的围护结构基本上不含颗粒，所以所述衬底在处理期间不会被颗粒污染。等离子体通过在不存在流光或微弧的情...