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本发明涉及一种基于赝火花脉冲放电电子束进行薄膜沉积装置，包括试验腔体、赝火花放电腔体体及配套电路、抽真空装置、赝火花放电电子束、工作气体及气压控制装置、薄膜沉积靶材及移动平台、衬底加热及移动平台、电子束束流强度控制及测量装置，试验腔体为封闭...
该专利属于上海宇航系统工程研究所所有，仅供学习研究参考，未经过上海宇航系统工程研究所授权不得商用。

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