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本发明涉及一种陶瓷靶材材料、薄膜及薄膜制备工艺，包括氧化镍和掺杂源元素，所述掺杂源元素的总质量分数不高于10％，所述掺杂源元素选自Li 0‑6％、Na 0‑0.3％、Mg 0‑1.0％、Al 0‑0.1％、Si 0‑0.1％、K 0‑0.1...
该专利属于北京航空航天大学宁波创新研究院所有，仅供学习研究参考，未经过北京航空航天大学宁波创新研究院授权不得商用。

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