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本发明提供了一种MEMS麦克风的制备方法及MEMS器件的牺牲层的释放方法，在衬底上形成氧化层及结构层，在结构层的表面以及结构层内的释放孔的内壁上形成金属氧化物层，然后利用气相腐蚀工艺经由释放孔释放氧化层。在释放氧化层时，金属氧化物层能够提高...
该专利属于杭州士兰集昕微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州士兰集昕微电子有限公司授权不得商用。

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