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本发明涉及晶片卡盘、其生产方法和曝光装置。晶片卡盘包括由含有碳化硅的陶瓷制成的基底。该基底具有氧化处理层，并且在该基底的最外表面上形成有由类金刚石碳(DLC)制成的膜。...
该专利属于佳能株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过佳能株式会社授权不得商用。

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