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硅掺杂铁基聚阴离子化合物及其制备方法和应用技术
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文档序号:27884045
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本发明公布了一种具有三维离子及电子扩散路径晶体结构的硅掺杂铁基聚阴离子化合物Fe...
该专利属于散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所授权不得商用。
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