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本发明的一种制备高纯多晶硅的设备余热利用系统，包括炉体、均位于炉体内的坩埚、加热器、隔热层、及多余热量回收加热组件；炉体内具有加热区域，坩埚及加热器均位于加热区域；加热器与坩埚以及隔热层均为间隔设置，加热器在水平方向上位于坩埚与隔热层之间；...
该专利属于新余学院所有，仅供学习研究参考，未经过新余学院授权不得商用。

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