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本发明提供一种氮化钽薄膜电阻及其制备方法，通过在同一机台中，采用磁控溅射法形成依次堆叠的氮化钽层及钝化层的复合结构，从而通过钝化层可对氮化钽层进行保护，避免氮化钽层与外界环境接触，以使得氮化钽层具有良好的阻值稳定性；进一步的，当钝化层采用导...
该专利属于浙江集迈科微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江集迈科微电子有限公司授权不得商用。

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