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本发明公开了一种等离子体活化溶液或臭氧溶液雾化系统及保护雾化溶液活性的方法,包括等离子体发生器或臭氧发生器、活化溶液制备腔体、雾化腔体和控制单元,所述等离子体发生器或臭氧发生器、活化溶液制备腔体、雾化腔体依次连接,所述等离子体发生器、活化溶...该专利属于中消天盾等离子科技(大连)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中消天盾等离子科技(大连)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种等离子体活化溶液或臭氧溶液雾化系统及保护雾化溶液活性的方法,包括等离子体发生器或臭氧发生器、活化溶液制备腔体、雾化腔体和控制单元,所述等离子体发生器或臭氧发生器、活化溶液制备腔体、雾化腔体依次连接,所述等离子体发生器、活化溶...