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本发明涉及一种用于生成偏振全息图的方法，其中，在第一步骤中，计算相位全息图（１），且其中，在第二步骤，计算的相位全息图被转移到物质载体（５），该物质载体包括其中能够通过光暴露局部产生定向双折射的物质。本发明还涉及用于生成偏振全息图的装置以及...
该专利属于拜尔创新有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过拜尔创新有限责任公司授权不得商用。

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