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本发明MEMS探针激光刻蚀装置用光学准焦结构属于半导体加工测试技术领域；所述光学准焦结构在MEMS探针激光刻蚀装置中，将螺旋通槽板用上一字通槽板代替，将直线通槽板用下一字通槽板代替，将单晶硅圆片用相同厚度的平面反射镜代替，所述上一字通槽板上...
该专利属于强一半导体（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过强一半导体（苏州）有限公司授权不得商用。

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