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曝光装置制造方法及图纸
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文档序号:2761729
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一种曝光装置,包括透光构件和保护盖。透光构件允许向着扫描目标定向的光束穿过其中。保护盖被安装为在关闭位置和打开位置之间可绕枢轴转动。保护盖具有第一构件和第二构件。在关闭位置,第一构件遮蔽透光构件,并且在打开位置不遮蔽透光构件从而允许光束穿过...
该专利属于夏普株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过夏普株式会社授权不得商用。
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