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用于曝光衬底的浸没式光刻方法和装置制造方法及图纸
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下载用于曝光衬底的浸没式光刻方法和装置的技术资料
文档序号:2752125
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本发明涉及照明衬底(405)的浸没式光刻方法。当衬底(405)被照明时,浸没液被导入成像元件和衬底之间,并且根据所述方法,通过沿着载体(409)的移动方向改变照明标线(402)与要被照明的衬底(405)的表面之间的射束方向上的距离,调整要被...
该专利属于英飞凌科技股份公司所有,仅供学习研究参考,未经过英飞凌科技股份公司授权不得商用。
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