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本发明涉及用于构图工件的浸式光刻系统，所述工件布置在像平面且至少部分地被覆盖以对电磁辐射敏感的层。所述系统包括：源，其发射电磁辐射到物平面上；掩模，其适于在所述物平面处接收和调制所述电磁辐射，并朝向所述工件传递所述电磁辐射；以及浸入媒质，其...
该专利属于麦克罗尼克激光系统公司所有，仅供学习研究参考，未经过麦克罗尼克激光系统公司授权不得商用。

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