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本发明是一种图案形成方法，包括以下工序：在基板上成形成对由无掩模直接描画曝光装置照射的主波长的ｈ线灵敏度低、对含有紫外光的能线灵敏度高的第一感光性材料的膜的工序；在上述第一感光性材料上形成对上述主波长的ｈ线灵敏度高的第二感光性材料的工序；使...
该专利属于日立比亚机械股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过日立比亚机械股份有限公司授权不得商用。

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