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本发明提供了一种散射条的生成方法，它主要应用于提高隔离或半隔离图案的光刻质量。它包括以下步骤：１：在光掩膜板主图形中均插入预设参数值的散射条；２：判定插入的散射条中桥接在一起的散射条各自的影响因子，并对其影响因子进行大小的排序；３：修正桥接...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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