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获得曝光设备聚焦位置的方法，包括：测量经所述曝光设备曝光生成的光敏材料层图案的侧壁角角度；将所述侧壁角角度输入侧壁角角度与曝光设备聚焦位置坐标的函数关系，获得该侧壁角对应的聚焦位置坐标。本发明还提供曝光设备聚焦检测的方法、半导体衬底表面平坦...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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