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本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分（Ａ）和通过曝光来产生酸的产酸剂成分（Ｂ）的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分（Ｂ）含有由下述通式（ｂ１－１）表示的化合物形成的产酸剂（Ｂ１），Ｒ↑［Ｘ］－Ｑ↑［３］－Ｏ－...
该专利属于东京应化工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京应化工业株式会社授权不得商用。

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