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本实用新型涉及制作量子线超微细图形过程中所用的掩模。本掩模包括有透明衬底和量子金属线图形，其特征在于所述量子金属线图形依附在透明衬底垂直凸起的光栅的两个侧壁上，本掩模不仅具有稳定性好，使用寿命长的优点，而且由于透明光栅的尺寸较大，容易制作，...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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