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＊＊＊ （Ⅰ） 本发明公开了一种用于亚微米光刻术的光致抗蚀剂树脂共聚物（如式Ⅰ所示），及一种包括此共聚物的光致抗蚀剂组合物：其中Ｒ↓［１］是含有０－３０个碳原子的烷基；Ｒ↓［２］和Ｒ↓［３］互不相关地分别为含有１－１５个碳原子的烷基...
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