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本发明提供制备金属离子含量低的ＴＰＰＡ的方法，采用了处理过的离子交换树脂。还提供了从这种ＴＰＰＡ制备光敏抗蚀剂组合物的方法，以及采用这种光敏抗蚀剂组合物生产半导体器件的方法。...
该专利属于克拉里安特国际有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过克拉里安特国际有限公司授权不得商用。

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