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本发明属于激光微细加工领域。一种采用激光对ＳＵ－８胶曝光光刻的方法，其特征在于：采用波长为３５５ｎｍ的三倍频Ｎｄ：ＹＡＧ激光器（１）作为对ＳＵ－８光敏胶进行曝光光刻的光源，激光经均束后通过图案透光的掩模板（４），再经聚焦物镜（５）投影到ＳＵ...
该专利属于北京工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京工业大学授权不得商用。

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