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曝光掩模及其生产方法和曝光方法技术
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文档序号:2747661
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提供了一种曝光掩模,其通过曝光以简单结构形成三维形状并获得足够的灰度值。在用于曝光设备(S)的曝光掩模(M)中,提供本发明使得:由阻挡从曝光设备(S)发出的光的挡光图案和透射所述光的透光图案的一对图案所构成的多个图案块连续地排列;同时所述连...
该专利属于索尼株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过索尼株式会社授权不得商用。
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