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光致抗蚀剂图案的形成方法以及修整方法技术
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文档序号:2747021
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一种形成光致抗蚀剂图案的方法,此方法是首先在衬底上形成光致抗蚀剂层,之后对光致抗蚀剂层进行一曝光工艺。接着,进行一显影工艺以使光致抗蚀剂层形成一图案化光致抗蚀剂层。然后,对此图案化光致抗蚀剂层进行多重修整步骤,其中此多重修整步骤包括进行至少...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
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