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本发明公开了一种ＴＦＴ ＬＣＤ光刻工艺中的光刻胶涂覆设备，包括：平台、光刻胶供给机构、喷嘴和喷嘴移动机构，其中喷嘴由光刻胶喷嘴和压缩空气喷嘴组成。且光刻胶喷嘴为多个，设置在喷嘴的中间位置或设置在喷嘴的两侧，或每个光刻胶喷嘴的周围包围多个压...该专利属于北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。