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本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法,其特征在于,包括下列步骤:(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列;(2)根据微区单元制作压印模仁;(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置,进入第一个压印工作位;(4)进行一个微区单元的微...该专利属于苏州苏大维格数码光学有限公司;苏州大学所有,仅供学习研究参考,未经过苏州苏大维格数码光学有限公司;苏州大学授权不得商用。
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本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法,其特征在于,包括下列步骤:(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列;(2)根据微区单元制作压印模仁;(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置,进入第一个压印工作位;(4)进行一个微区单元的微...