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一种用于光刻系统（１００）中的空间光调制器（１１０），包括光调制元件（２１０），这些光调制元件被构造成使用光学过取样技术通过光刻将图像（３００）转移到衬底（１５０）上，以减少所转移的图像（３００）中的缺陷。第一组光调制元件（２１０）可操作以...
该专利属于安捷伦科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安捷伦科技有限公司授权不得商用。

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