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本发明提供一种待测样品形貌测量装置及方法，装置包括光源；偏振分光单元；四分之一波片；准直单元；参考单元；光束调整单元和至少一个成像单元，光束调整单元用于调整信号光束与参考光束的传播方向，并将信号光束与参考光束投射至成像单元形成信号图像，信号...
该专利属于上海精测半导体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海精测半导体技术有限公司授权不得商用。

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